紫外線レーザーマーキングの超微細機能を理解する

紫外線の能力（UV）レーザーマーキング機超微細マーキングを実現するには、主に UV レーザーの独自の特性に依存します。 UV レーザーの短波長 (通常は 200 ～ 400 ナノメートルの範囲) により、より高い光密度が可能になり、その結果、より微細なマーキング精度が得られます。超微細なマーキングを実現できる理由は次のとおりです。

1.短波長: UV レーザーは他のレーザーに比べて波長が短いため、ビームをより厳密に集束し、より小さなマーキング ポイントを生成できるため、より正確なマーキング効果が得られます。
2.より高いエネルギー密度: UV レーザーはより高いエネルギー密度で特定の波長範囲内で動作し、より小さな表面でより正確なエッチング、マーキング、およびより微細なディテールを可能にします。

3.熱影響ゾーンの削減: UV レーザーマーキングマシンは通常、熱影響ゾーンを小さくできるため、周囲の材料に損傷を与えることなく超微細なマーキングが可能です。
4.正確な制御: UVレーザーマーキングマシン高精度の制御システムを備えており、レーザーの出力、周波数、焦点を微調整することができ、超微細なマーキングを可能にします。

 

これらの特性により、UV レーザー マーキング マシンは、複雑なマーキングや彫刻が必要な用途、特に顕微鏡スケールでの超微細なディテールが必要な場合に非常に効果的になります。