紫外線レーザーマーキングの超微細加工能力を理解する

紫外線の能力（UV）レーザーマーキングマシン超微細マーキングを実現するには、主にUVレーザーの独自の特性に頼る必要があります。UVレーザーの波長は200～400ナノメートルと短いため、光密度が高くなり、より微細なマーキング精度が得られます。超微細マーキングを実現できる理由は以下のとおりです。

1. より短い波長: UV レーザーは他のレーザーに比べて波長が短いため、ビームをより厳密に焦点を絞ることができ、より小さなマーキングポイントを生成できるため、より正確なマーキング効果が得られます。
2. より高いエネルギー密度: UV レーザーは、より高いエネルギー密度の特定の波長範囲内で動作し、より正確なエッチング、マーキング、および小さな表面でのより細かいディテールを可能にします。

3. 熱影響部の縮小: UV レーザー マーキング マシンは通常、熱影響部が小さくなるため、周囲の材料を損傷することなく超微細なマーキングが可能になります。
4.精密制御：UVレーザーマーキングマシン高精度な制御システムを備えており、レーザー出力、周波数、焦点を微調整できるため、超微細なマーキングが可能です。

 

これらの特性により、UV レーザー マーキング マシンは、特に顕微鏡的スケールでの超微細なディテールが必要な場合など、複雑なマーキングや彫刻を必要とする用途に非常に効果的です。